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芯片白菜价真有可能,ASML将被砸饭碗,光刻机不再重要

日前日本芯片设备企业佳能发布了5纳米压印技术,这项技术可以大幅降低芯片生产难度和成本,对于光刻机龙头ASML无疑是重锤打击,意味着ASML的光刻机价值大跌。在芯片制造行业,能与ASML比肩的仅有佳能和尼康,ASML研发了浸润式的DUV光刻机,后来又联合美国研发EUV光刻机,由此奠定了它的龙头地位,占有光刻机市场近六成的市场份额。尼康延续了ASML的技术路线,但是只是研发成功浸润式光刻机;佳能走了另外一条路,将电路图如印章那样压印在晶圆上,再通过刻蚀机将电路图刻蚀出来就能得到芯片,此前佳能已实现10纳米压印技术并被日本铠侠采用,证明了这项技术的可行性,如今它发布5纳米压印技术,再次取得重大突破。

中国芯片技术的进展让人吃惊,ASML高管表示西方太自以为是了

日前荷兰光刻机巨头ASML的CEO彼得·温宁克(PeterWennink)在当地电视台接受采访时表示孤立中国没有希望,如果西方不分享技术,那么中国完全可能自行研发技术解决方案,他还认为“我们太自以为是了”。ASML高管说这番话恰是在中国一家手机企业发布了国产5G手机之后,而在这款手机发布后几天ASML就表示获得许可在今年底前出售更先进的2000i光刻机,显示出ASML高管已认识到中国芯片行业已研发成功先进的浸润式光刻机。ASML高管对中国的态度一直都是左摇右摆,它最早停止给中国供应先进的EUV光刻机,后来在众所周知的原因影响下停止对中国出售14纳米以下的光刻机,到了今年上半年它再次表示可以对中

陆续反水,ASML之后,日本尼康也可能对中国出售光刻机

随着中国一家手机企业发布5G手机,证明中国芯片制造自研先进光刻机取得成功,ASML率先跟进--表示已获得许可对中国出售更先进的2000i光刻机,日前再有消息传出,曾紧跟美国脚步的日本光刻机企业尼康也在考虑重新对中国出口光刻机。一、光刻机的客户有限全球采购光刻机的企业其实相当有限,尤其是目前全球芯片供给过剩的情况下,导致光刻机的三大客户台积电、三星、Intel都放缓采购光刻机的脚步。市调机构trendForce公布的二季度全球芯片代工企业排名的数据显示前十大芯片代工企业的营收都在下滑,连台积电都未能例外。台积电其实在去年底就已传出关闭部分EUV光刻机以缩减产能的消息,如今业绩出现较大幅度的下滑,

回购800台光刻机,ASML蒙受千亿损失,中国芯将开辟新技术路线

日前长江存储代理CEO公开表示如果ASML拒绝为已购买的光刻机提供售后服务和配件,作为客户有权要求ASML回购光刻机,如果ASML被迫回购中国芯片企业已购买的800台光刻机,将蒙受千亿损失。业界人士认为任何一项产品都应该提供售后服务,例如汽车的使用寿命长达10多年,汽车企业就会提供长达10多年的售后服务,这是企业在面对消费者应该提供的义务,光刻机这种动辄数亿元的产品更应该如此,如果ASML做不到,那么它理应回购这部分光刻机。专家表示如果ASML既不提供售后服务,又不回购光刻机,那么中国应该考虑拒绝承认荷兰境内所有公司的知识产权,乃至可以借此没收ASML在中国的资产,ASML的专利权也不应得到维

荷兰新规所有DUV光刻机都禁止出口?ASML正式回应

7月1日消息,昨天有消息称,ASML旗下所有的DUV光刻机,出口都要被经过认可才可以。对于这样的说法,也是引起了热议,不过ASML给出了回应。ASML表示,出口管制条例只涉及部分最新DUV型号,包括TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。EUV光刻机在此前已经受到限制,其他系统的发运未受管控。此外,ASML还表示,上述规定是在9月1日才生效,而他们已经提交了许可申请。所以,在上述时间之前发货的DUV光刻机或不受影响,此前业内猜测的TWINSCANNXT:1980Di也不受影响。在这之前,光刻机大厂ASML高管对外表示,半导体业只有通力合作,建立完全自主的产业链,即使并非不

ASML大举向中国出口光刻机,或在于忧虑中国光刻机技术取得突破

在一季度大举向中国出口23台光刻机之后,ASML近期再度向中国芯片释放善意,表示要在中国招募200名员工,为中国客户提供更周到的服务,ASML此举或许在于它忧虑中国的光刻机技术在快速升级,即将打破它的垄断。2021年ASML总计向中国出售了57台光刻机,中国也成为ASML的第一大客户,中国给ASML贡献了290多亿美元收入,超过了韩国和中国台湾的大约250亿美元。随着芯片供给过剩迹象日益明显--手机产业链库存水平较高,近期部分芯片价格较去年高点跌去八成,芯片需求在显著下滑,市调机构Gartner更认为明年全球市场对芯片的需求将下滑超过两成,芯片需求下滑这两年快速推进的产能扩张造成影响,芯片制造

国产EUV光刻机再进一步,已拿下20多项专利,ASML后悔莫及

近日国内光刻机产业链的企业之一,传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果,国产EUV光刻机已取得了重大进展,或许数年后国产EUV光刻机就将量产,这正让ASML后悔莫及。光刻机之所以难,在于它是集诸多行业的精华于一身,需要诸多产业链企业共同配合才能量产,一台光刻机就有上万个元件,可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链。此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台,由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家;此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件,各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业

业绩大幅下跌,中国的光刻机再获突破,ASML的好日子真的结束了

据媒体报道指国产EUV光刻机已取得重大突破,中科院上海光机所在核心光学器件方面取得了重大突破,另外光学系统巨头国王光学也在近期招标五轴联动加工中心,显示出整个产业链都在EUV光刻机方面迈出了重要一步,这对于ASML将是又一个重大打击。早前ASML公布的业绩显示,营收同比、环比分别下降19%、29.1%,净利润更是同比、环比分别下滑47.8%、60.8%,原因就是它的几大客户如韩国、中国台湾和美国的采购量显著下滑。在ASML的几个传统客户显著缩减采购金额的情况下,中国给ASML贡献的收入却快速上涨,2019年ASML从中国大陆获得的收入为13.7亿欧元,2021年则增加至27.4亿欧元,翻了一倍

反转了,中国光刻机取得突破,ASML或向中国出售14纳米以下光刻机

外媒报道指ASML可能将改变此前的做法,将向中国出售可用于14纳米的光刻机,原因是中国光刻机的突破以及ASML自身经受的业绩压力,为了抢占市场并争取生存机会,只能无视美国的芯片规则。一、ASML顶不住了ASML的最大利润来源是EUV光刻机,然而EUV光刻机如今可能面临无人购买的局面。台积电公布了一季度的业绩,业绩显示创下17个月以来的新低纪录,原因是芯片订单急剧减少,导致台积电的7纳米工艺产能利用率暴跌至四成,5纳米工艺产能利用率也在下降,为此台积电将进一步缩减今年的资本开支,而它在去年就已宣布减少今年的资本开支80亿美元,同时还停止了7纳米和28纳米工艺产能扩张计划。相比起台积电,EUV光刻