众所周知，不能生产高端芯片，一直都是我国芯片产业一个无法抹去的痛。加上老美近几年的刻意打压，部分中芯企更是苦不堪言，因此大部分人心里也都憋着一口气，这几年也是铆足了劲，大力推动国产芯片技术的发展。所幸，在国家的大力扶持，和中芯企业的共同努力下，近段时间我国在高端芯片制造领域，也是迎来了不小的突破。先是哈工大的胡鹏程教授团队，研发出了“高速超精密激光干涉仪”，获得了国内首届“金燧奖”。另一个则是国内某芯片企，研发出了SAQP技术，称该技术可以在不需要EUV光刻机的前提的下，达到7nm工艺。原本听到这些消息，笔者是很开心的，毕竟这是属于我们的技术突破，虽然还没有走在世界前列，但起码在不断拉进与美西

外媒报道指早已退休的台积电前研发副总林本坚接受采访的时候表示，美国无法阻止中国研发先进工艺，还认为中国可以利用现有设备研发更先进的5纳米工艺，他的表态让外媒相当吃惊。林本坚如此说法在中国的华为研发出相当于7纳米工艺的麒麟9000S之后，他认为中国芯片行业展现了显著的韧性和独创性，因此认为中国芯片行业不会局限于7纳米工艺，更可能实现5纳米工艺。林本坚被誉为浸润式光刻机之父，当年日本垄断了光刻机行业，佳能、尼康合计占光刻机市场近八成的市场份额，不过这两家日本企业研发的光刻机为干式光刻机，林本坚则提出了浸润式光刻机。日本光刻机企业基于自己的利益并不认同林本坚的浸润式光刻机技术，当时陷入困境的ASML

日前日本芯片设备企业佳能发布了5纳米压印技术，这项技术可以大幅降低芯片生产难度和成本，对于光刻机龙头ASML无疑是重锤打击，意味着ASML的光刻机价值大跌。在芯片制造行业，能与ASML比肩的仅有佳能和尼康，ASML研发了浸润式的DUV光刻机，后来又联合美国研发EUV光刻机，由此奠定了它的龙头地位，占有光刻机市场近六成的市场份额。尼康延续了ASML的技术路线，但是只是研发成功浸润式光刻机；佳能走了另外一条路，将电路图如印章那样压印在晶圆上，再通过刻蚀机将电路图刻蚀出来就能得到芯片，此前佳能已实现10纳米压印技术并被日本铠侠采用，证明了这项技术的可行性，如今它发布5纳米压印技术，再次取得重大突破。

日前媒体纷纷传言清华研发成功EUV光刻机，这个其实夸大了事实，不过却也确实是EUV光刻机的重大突破，将绕开ASML等西方垄断的EUV光刻技术路线，开辟一条全新的道路。据了解清华研发成功的并非是EUV光刻机，而是可用于EUV光刻机的光源，这被称为SSMB（稳态微聚束加速器光源），据了解清华大学负责该项技术研发的唐传祥教授也明确指出“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源”。EUV光刻机是研发5纳米乃至更先进工艺的必需设备，目前台积电、Intel、三星量产的5纳米、3纳米工艺都需要EUV光刻机，7纳米工艺固然也可用DUV光刻机但是却导致性能不够7纳米EUV工艺强，而且良率偏低、成本

随着中国一家手机企业发布5G手机，证明中国芯片制造自研先进光刻机取得成功，ASML率先跟进--表示已获得许可对中国出售更先进的2000i光刻机，日前再有消息传出，曾紧跟美国脚步的日本光刻机企业尼康也在考虑重新对中国出口光刻机。一、光刻机的客户有限全球采购光刻机的企业其实相当有限，尤其是目前全球芯片供给过剩的情况下，导致光刻机的三大客户台积电、三星、Intel都放缓采购光刻机的脚步。市调机构trendForce公布的二季度全球芯片代工企业排名的数据显示前十大芯片代工企业的营收都在下滑，连台积电都未能例外。台积电其实在去年底就已传出关闭部分EUV光刻机以缩减产能的消息，如今业绩出现较大幅度的下滑，

9月9日消息，光刻机巨头ASML喊话，出口管制不是可行做法，应该对中国厂商保持放开。ASMLCEOPeterWennink接受荷兰媒体采访时表示，通过出口管制完全孤立中国厂商并不是一个可行的做法。华为Mate60Pro中的芯片实现突破就间接说明了这一点，这些限制实际上正在推动中国科技加倍努力创新。ASML通过制造能够生产世界上最先进芯片的光刻机设备，在这场芯片争夺战中发挥着举足轻重的作用。在这之前，美国半导体行业总裁也喊话，没有一个国家可以扭转芯片供应链，半导体行业需要中国。中国是我们供应链的一个重要组成部分，同时也是我们非常大的客户群。如果一个国家试图凭一己之力扭转整个供应链，其成本将高得令

日前长江存储代理CEO公开表示如果ASML拒绝为已购买的光刻机提供售后服务和配件，作为客户有权要求ASML回购光刻机，如果ASML被迫回购中国芯片企业已购买的800台光刻机，将蒙受千亿损失。业界人士认为任何一项产品都应该提供售后服务，例如汽车的使用寿命长达10多年，汽车企业就会提供长达10多年的售后服务，这是企业在面对消费者应该提供的义务，光刻机这种动辄数亿元的产品更应该如此，如果ASML做不到，那么它理应回购这部分光刻机。专家表示如果ASML既不提供售后服务，又不回购光刻机，那么中国应该考虑拒绝承认荷兰境内所有公司的知识产权，乃至可以借此没收ASML在中国的资产，ASML的专利权也不应得到维

据称郭台铭创立的富士康已筹建芯片封测厂，并大举购进了46台国产光刻机，希望揽下某国产手机企业的5G芯片，显示出它在印度、越南等市场连连受挫后，期望在中国大陆市场再创新辉煌。一、富士康在越南和印度得到教训富士康在苹果的推动下大举投资印度和越南，尤其是印度更是大手笔，号称要投资数十亿美元，在印度复制另一个富士康，然而数年时间过去，富士康在印度却遭受了挫折。花了近五年时间，富士康在印度的员工数量才达到1.7万人，它计划还要花3年时间将员工数量增加至7万；对比之下，富士康在郑州的工厂仅用了2年时间就拥有了30万员工，印度的进展实在太缓慢了。更让富士康难以接受的是印度工人的素质远比不上中国工人，印度工人

中国在芯片制造领域一直在追赶先进的技术，虽然在一些关键技术方面还存在一定差距，但近年来中国在光刻机领域取得了一些进展，下面将详细介绍中国目前最先进的光刻机是多少纳米。什么是光刻机？光刻机是集成电路制造过程中的核心工具之一，它使用特定波长的光线将芯片上的图形投影到硅片上，从而进行微细加工。其分辨率是影响芯片制造工艺的一个重要参数。光刻机的分辨率越高，制造出的芯片就越精细，性能也越好。目前世界上最先进的光刻机是ASML公司生产的EUV（极紫外）光刻机，采用的是13.5纳米波长的光源，其分辨率已达到了7纳米。EUV光刻机是目前半导体工业制造7纳米以上芯片的必备设备。然而，由于其技术难度极高，价格昂贵

7月1日消息，昨天有消息称，ASML旗下所有的DUV光刻机，出口都要被经过认可才可以。对于这样的说法，也是引起了热议，不过ASML给出了回应。ASML表示，出口管制条例只涉及部分最新DUV型号，包括TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。EUV光刻机在此前已经受到限制，其他系统的发运未受管控。此外，ASML还表示，上述规定是在9月1日才生效，而他们已经提交了许可申请。所以，在上述时间之前发货的DUV光刻机或不受影响，此前业内猜测的TWINSCANNXT:1980Di也不受影响。在这之前，光刻机大厂ASML高管对外表示，半导体业只有通力合作，建立完全自主的产业链，即使并非不